1200℃迷你型真空氣氛管式爐

更新日期：2025-04-03

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簡要描述：1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

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    1200℃迷你型真空氣氛管式爐

    產品詳情：1200℃迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐腔材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐腔表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐腔潔凈度。

    1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：

    主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

產品名稱	1200℃迷你型真空氣氛管式爐
產品型號	1200℃
爐管尺寸	Φ50*600mm
溫區長度	200mm
恒溫區長	100mm
爐腔材料	高純氧化鋁纖維
溫度	1200℃
正常工作溫度	≤1100℃
溫控	采用PID方式調節，可設置30段升降溫程序
溫控	具有超溫及斷偶報警功能
加熱速率	0~20℃/分
加熱元件	摻鑰鐵銘鋁電阻絲
工作電壓	AC 208-240單相，50/60 Hz
大功率	2.5KW
真空密封系統	爐管兩端采用KF法蘭進行密封，密封圈為硅膠密封圈
溫度測試元件	K型熱電偶測溫
爐管	石英管

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